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快速退火爐設備說明
- 分類： 行業知識
- 作者：超級管理員
- 來源：本站
- 發布時間：2023-01-18
- 訪問量： 924
【概要描述】快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C···
快速退火爐設備說明
【概要描述】快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C···
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快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C，從而消除晶圓或材料的部分缺陷，提高產品性能。
快速退火爐采用先進的微電腦控制系統和PID閉環控溫，可達到較高的控溫精度和溫度均勻性，并可根據用戶工藝要求配備真空室或多路氣體。
快速退火爐主要由真空室、加熱室、進氣系統、真空系統、溫控系統、風冷系統、水冷系統等組成。
真空室：真空室是快速退火爐的工作空間，晶片在此進行快速熱處理。
加熱室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以耐高溫合金為框架，以高純石英為主體。
進氣系統：真空室末端有進氣孔，采用精確控制的進氣口，以滿足某些特殊工藝的用氣要求。
真空系統：真空泵與真空腔之間裝有高真空電磁閥，可有效保證腔體的真空度，同時防止氣體回流污染腔體內已加工的工件。
溫控系統：溫控系統由溫度傳感器、溫度控制器、電源調節器、可編程控制器、PC機及各種傳感器組成。
風冷系統：真空室的冷卻是通過進風系統向腔內充入惰性氣體，以加速熱處理工件的冷卻，達到工藝要求。
水冷系統：水冷系統主要包括真空室、加熱室、各部件密封圈的冷卻水。
以上就是武漢嘉儀通科技有限公司小編收集的內容，如有需要請與我們聯系。公司集快速退火爐、熱電性能測試、芯片晶圓熱處理、鍵合爐、熱氮化、薄膜熱導率、退火爐、去應力退火、金屬合金化、薄膜熱處理、熱氧化、霍爾系數的研發、市場和技術服務于一體。公司專注于薄膜材料物理性能測量儀器的自主研發，致力于為客戶提供薄膜材料的高低溫環境試驗、熱、電等性能測試分析的整體解決方案。公司始終堅持自主研發與應用創新，擁有自己的技術工程師研發團隊，建有省級工程實驗室、新型研發機構以及市企業技術中心平臺，主持承擔參與了 10 余項科技攻關項目。
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